产品描述：
Plasma-Therm是致力于RIE/ICP的世界知名设备提供商， 产品涵盖2”~ 8”主流ICP干法刻蚀工艺，广泛应用于三五族(GaAs / SiC )、GaN功率及射频器件、VCSELs器件等化合物产业，以及MEMS和Si基半导体产业。
Plasma-Therm是致力于RIE/ICP的世界知名设备提供商， 产品涵盖2”~ 8”主流ICP干法刻蚀工艺，广泛应用于三五族(GaAs / SiC )、GaN功率及射频器件、VCSELs器件等化合物产业，以及MEMS和Si基半导体产业。
1.配置：2”~8” 手动 / 半自动 / 全自动(片盒对片盒) /全自动多腔(片盒对片盒)
2.领域 :三五族(GaAs / SiC)，GaN功率及射频器件、VCSELs的器件等化合物产业及MEMS和Si基半导体产业等
3.制程 : RIE / ICP
1.刻蚀速率可调
2.低损伤控制
3.侧壁的角度和粗糙度控制技术
4.较佳的刻蚀均匀性控制
5.较佳的批次均匀性控制
6.超长的平均开腔清洁时间间隔以及精准灵敏的刻蚀断点监测技术
1.三五族化合物半导体(GaAs / SiC，GaN功率及射频器件，InP器件，InSb锑化物器件)
2.MEMS微机电
3.滤波器器件
4.石英基底的光通讯器件
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