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ICP干法刻蚀设备
产品概述: Plasma-Therm是致力于RIE/ICP的世界知名设备提供商, 产品涵盖2”~ 8”主流ICP干法刻蚀工艺。销售联系方式:李安芃 18918393270。
产品描述:

Plasma-Therm是致力于RIE/ICP的世界知名设备提供商, 产品涵盖2”~ 8”主流ICP干法刻蚀工艺,广泛应用于三五族(GaAs / SiC )、GaN功率及射频器件、VCSELs器件等化合物产业,以及MEMS和Si基半导体产业。

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仪器简介:

1.配置:2”~8” 手动 / 半自动 / 全自动(片盒对片盒) /全自动多腔(片盒对片盒)

2.领域 :三五族(GaAs / SiC),GaN功率及射频器件、VCSELs的器件等化合物产业及MEMS和Si基半导体产业等

3.制程 : RIE / ICP

仪器特点:

1.刻蚀速率可调

2.低损伤控制(专利技术)

3.侧壁的角度和粗糙度控制技术

4.较佳的刻蚀均匀性控制

5.较佳的批次均匀性控制

6.超长的平均开腔清洁时间间隔以及精准灵敏的刻蚀断点监测技术

应用领域:

1.三五族化合物半导体(GaAs / SiC,GaN功率及射频器件,InP器件,InSb锑化物器件)

2.MEMS微机电

3.滤波器器件

4.石英基底的光通讯器件

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